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全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字化技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術(shù)，采用真空光室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測(cè)器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低檢出線(xiàn)、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。

多功能W2型全譜直讀光譜儀于有色金屬設(shè)計(jì)的光譜儀W2型具有多功有色金屬設(shè)計(jì)的用于測(cè)試鋁基、銅基、鎂基、鋅基、鈷基、錫基、鉛基等覆蓋了全元素分析范圍，根據(jù)用戶(hù)要求設(shè)定測(cè)量的元素通道。 光譜儀*異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性和精密度光學(xué)系統(tǒng)采用Z高精密光柵，3600l/ｍｍ，配合多塊ＣＣＤ組合，確保光學(xué)系統(tǒng)Z高精度。創(chuàng)新設(shè)計(jì)的數(shù)字激發(fā)光源，鎢材料電極及氬氣噴射激發(fā)模式根據(jù)不同的材料設(shè)定不同的激發(fā)參數(shù)，使火花放

多功能W6型全譜直讀光譜儀 檢測(cè)基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基 全新立式全譜光譜采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，與光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、*的ＣＣＤ檢測(cè)器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有*的性能、極低的檢出線(xiàn)、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。

光譜直讀分析儀的分析原理是將光源輻射出的待測(cè)元素的特征光譜通過(guò)樣品的蒸汽中待測(cè)元素的基態(tài)原子所吸收，由發(fā)射光譜被減弱的程度，進(jìn)而求得樣品中待測(cè)元素的含量。它符合郎珀-比爾定律 A= -lg I/I o= -LgT = KCL 式中I為透射光強(qiáng)度，I0為發(fā)射光強(qiáng)度，T為透射比，L為光通過(guò)原子化器光程由于L是不變值所以A=KC。